等离子晶圆清洗工艺主要处理晶圆上面的什么杂质

显示全部楼层 · 2022-6-14 05:23

问题:
等离子晶圆清洗工艺主要处理晶圆上面的什么杂质

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等离子清洗可以清洗活化提高粘接附着力，具有工艺简单、操作方便、无废物处理和环境污染等优点，在晶圆上的应用处理颗粒主要是一些聚合物、光刻胶和蚀刻杂质，有机物如人体皮肤油脂、细菌、机油、真空油脂、光刻胶、清洗溶剂
，金属杂质包括铁、铜、铝、铬、钨、钛、钠、钾、锂，还有暴露在氧气和水中的半导体晶片表面会形成自然氧化层都可以清除。

其他答案:
等离子晶圆清洗工艺主要处理晶圆上面的什么杂质？
答：表面覆着的加工残渣

[手工艺品] 等离子晶圆清洗工艺主要处理晶圆上面的什么杂质

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